- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)規(guī)格：
產(chǎn)品型號
CY-O1200-Φ60-200×200×-T
供電電壓
AC220V，50Hz
*大功率
4KW
升溫速率
*高20℃/min，推薦≤10℃/min
工作溫度
*高溫度≤1200℃； 連續(xù)工作溫度≤1150℃
加熱溫區(qū)
雙溫區(qū)200mm+200mm
爐管參數(shù)
長度1000mm O.D 60mm I.D 53mm
控溫精度
PID控溫 精度±1℃
熱電偶
K型熱電偶
控溫方式
雙溫區(qū)分別控溫
AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條
帶有過熱和斷偶保護(hù)
爐膛材料
高純氧化鋁爐膛
真空接口
KF16
進(jìn)氣口
6.35卡套接頭
磁力推桿
可移動長度500mm
可以將樣品在兩個溫區(qū)內(nèi)移位
以滿足客戶的熱處理工藝
采用磁力耦合的連接方式，
能夠保證爐管真空的同時推動樣品
外形尺寸
1300mm X 420mm X 550mm
